純化水設備是采反滲透除鹽技術對水進行處理，使出水水質符合GMP認證標準，符合中國藥典2010年版純化水標準。萊特萊德上海水處理公司生產的純化水設備的核心元件是進口的復合膜，又采兩級殺菌消毒技術對水進行處理，從而將水中的分子、離子、熱源、膠體微生物等有害物質徹底分離，從未達到凈化水的目的。
純化水設備工藝流程
1、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→水點
2、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→水點
3、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→水點
純化水設備的特點
1、產水符合2010版藥典純化水標準，可符合GMP標準。
2、直接自來水制成土無菌超純水，能完全替代蒸餾水及雙蒸水。
3、純化水設備采進口泵、反滲膜等部件。
4、采進口儀表，能對水質準確、連續分析、顯示。
5、純化水設備全自動操作系統，自動沖洗。

濕式反滲透膜元件基本上是由于生產廠商執行的質量體系為全量檢測，要求每支出廠的反滲透膜元件都要進行標準溶液檢測，只要通過標準測試的反滲透膜元件才能作為合格產品出貨。
而干式反滲透膜元件廠家執行的是產品抽檢體系，每個批次的膜元件進行抽檢標準溶液測試，抽檢后的膜元件為濕式膜元件，未檢測的膜元件為干式膜元件。
使用反滲透膜片的區別：常規的芳香族聚酰胺反滲透復合膜片的制造工藝大同小異，即把聚酯無紡布作為結構強度基層，在無紡布上預先涂敷一層高透水性微孔聚砜作為支撐層，然后通過界面重縮合法形成超薄膜的分離功能層，一般為濕膜。如需要干膜，還需將濕膜片進入干燥單元。因此，干膜片與濕膜片的區別在于干膜片是濕膜片經烘干制成。
反滲透膜元件卷制過程的區別：濕式膜元件使用的膜片為濕膜片，干式膜元件使用的膜片為干膜片，兩者的卷制工藝流程沒有明顯差異。
濕式反滲透膜膜元件的優點：
1、濕式反滲透膜膜元件一般每支膜元件出廠前都進行過膜元件的性能檢測，都能保證每支出廠膜元件的性能達到了標準，杜絕了瑕疵膜元件產品的出廠。
2、濕式反滲透膜膜元件初始性能優越，現場安裝后經過簡單的沖洗即可達到膜元件的Z好性能，節省啟動時間和沖洗水源。
3、濕式膜元件的反滲透基本性能一般優越于干式膜元件，即膜元件的脫鹽率和產水量稍具優勢。
濕式反滲透膜膜元件的缺點：
1、濕式膜元件需要用保護液或者其他防護措施，膜元件需要始終保持濕潤狀態及保持膜元件不發生微生物污染。
2、由于膜元件是濕潤狀態，冬季冰點以下的運輸Z好使用保溫車輛運輸或者到達目的地后需要在冰點以上的場所內進行保存。
干式反滲透膜膜元件的優點：
1、干式膜元件的制造技術和設備相對復雜一些，但干式膜元件不用保護液或者其他防護措施，重量輕，運輸費用相對較低，膜元件存放時間較長。
2、干式膜元件由于沒有濕潤，冬季冰點以下運輸不用車輛，運輸方便，同時對保存場所的條件要求也低。
干式反滲透膜膜元件的缺點：
1、膜元件出廠前采用抽檢，不能保證每支出廠的膜元件的性能都能達到標準，出廠的膜元件有瑕疵的存在可能性。
2、膜元件裝入系統后初期性能偏低，需要長時間浸泡和沖洗，膜元件性能才能逐步達到Z佳狀態，浪費時間和沖洗水源。
3、膜元件的反滲透基本性能，即產水量和脫鹽率相對濕式膜元件一般稍低。

設備介紹
超濾水處理系統(UF) 通常作為預處理用，不過也有直接作為終端過濾凈化水用，比如做礦泉水的，都可以采用超濾工藝，像一般的河水，湖泊水處理，經過過濾器后也可進入超濾進行進-步的凈化水質。
超濾礦泉水設備
超濾技術是去除水中懸浮物、原水動物、、和部分膠體的過濾方法。這一技術是保證飲水安全的重要手段，目前多的還是體現在工業水處理中，無論是做純水還是廢水，超濾都占據不可替代的位置。
而近幾年國內超濾膜的生產工藝也是不斷提高，在滿足用戶需求的情況下也成本也同時在降低。超濾膜有分為4寸(UF90)、6寸(UF160) 、8寸(UF200)、10寸(UF250) ，不同尺寸的超濾膜它的產水量也不一樣，通常設計單位會根據用戶需求以及其原水水質情況來選用不同型號不同尺寸的膜，雖然超濾具有除懸浮物，等的作用，但是無論是自來水或是其它水體都需要配備預處理，以保證超濾膜的性能及使用壽命。
超濾的預處理一般都是石英砂過濾器、混凝、活性炭過濾器、保安過濾器等等。具體工藝過程說明如下:
1、石英砂/錳砂過濾器
性能:采用多層不同粒徑的石英砂濾料以能除去原水中較大顆粒的懸浮物、泥沙、雜質等降低水的混濁度。使水中的有機物質、、等隨著濁度的降低而大量去除;錳砂濾器能有效降低進水的硬度。
特點:罐體采用玻璃纖維鋼材料，耐酸堿腐蝕。手動控制過濾器的反洗、正洗與運行。
超濾礦泉水生產設備
2.活性炭過濾器
活性炭過濾器主要是用來吸附水中的余氯，保證產水無余氯，還能部分去除或降低水中的色、嗅、味、有機物、重金屬和農藥殘留等有害物質。通常其過濾精度為100μm左右，出水濁度≤5NTU。
3、精密過濾器
內部填充PP棉濾芯，過濾孔徑5μm,去除水中固體物質，減少雜志對滲透膜的劃傷。
4、超濾設備
超濾膜可用于除去水中的懸浮微粒、膠體、微生物等。在水壓的作用下水分子及小分子物質透過超濾膜，水中的懸浮微粒、膠體、微生物等則被截留在超濾膜的內表面。由于絕大多數和微生物的直徑都大于0.1微米，比超濾膜孔徑大10倍以上，因此超濾膜能有效截留、等，從而產水水良。
5、反洗
經過一段時間的過濾，超濾膜上截留物會越來越多，為了維持超濾組件產水量的穩定，要定期進行水反洗/化學加強反洗，通過反洗使超濾膜產水通量得以恢復，使設備穩定運行。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
高品質顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。
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