超濾技術
超濾技術是通過膜表面的微孔結構對物質進行選擇性分離。當液體混合物在一定壓力下流經膜表面時，小分子溶質透過膜（稱為超濾液），而大分子物質則被截留，使原液中大分子濃度逐漸提高（稱為濃縮液），從而實現大、小分子的分離、濃縮、凈化的目的。
超濾(Ultra-filtration, UF)是一種能將溶液進行凈化和分離的膜分離技術。超濾膜系統是以超濾膜絲為過濾介質，膜兩側的壓力差為驅動力的溶液分離裝置。超濾膜只允許溶液中的溶劑(如水分子)、無機鹽及小分子有機物透過，而將溶液中的懸浮物、膠體、蛋白質和微生物等大分子物質截留，從而達到凈化和分離的目的。
超濾膜被大量用于水處理工程。超濾技術在反滲透預處理、飲用水處理、中水回用等領域發揮著越來越重要的作用。超濾技術在酒類和飲料的除菌與除濁，藥品的除熱原以及食品及制藥物濃縮過程中均起到關鍵作用。
超濾過濾孔徑和截留分子量的范圍一直以來定義較為模糊，一般認為超濾膜的過濾孔徑為0.001-0.1微米，截留分子量(Molecular weigh cut-off, MWCO)為1,000-1,000,000 Dalton。嚴格意義上來說超濾膜的過濾孔徑為0.001-0.01微米，截留分子量為1,000-300,000 Dalton。若過濾孔徑大于0.01微米，或截留分子量大于300,000 Dalton的微孔膜就應該定義為微濾膜或精濾膜。
一般用于水處理的超濾膜標稱截留分子量為30,000-300,000 Dalton，而截留分子量為6,000-30,000 Dalton 的超濾膜大多用于物料的分離、濃縮、除菌和除熱源等領域。
超濾膜的形式可以分為板式和管式兩種。管式超濾膜根據其管徑的不同又分為中空纖維、毛細管和管式。目前市場上用于水處理的超濾膜基本上以毛細管式為主，個別工程中使用的中空纖維(內徑0.1-0.5mm)聚乙烯或聚丙烯微孔膜實際上應屬于微濾膜。
將超濾膜絲組合成可與超濾系統連接的組件稱為超濾膜組件。中空纖維超濾膜組件分為內壓式、外壓式和浸沒式三種。其中浸沒式超濾膜過濾的推動力是膜管內部的真空與大氣壓之間的壓力差。對于過濾精度要求較高的超濾膜，這一壓力差通常不易滿足所需過濾推動力的要求，因此浸沒式的組件形式比較適合于過濾精度較低的超濾膜或微濾膜。外壓式超濾在正沖與反沖時，膜表面液體的流速極不均勻，影響膜表面的沖洗效果，因此常用于水處理的超濾膜還是內壓式組件結構較具有優勢。
超濾特點
中空纖維超濾膜由于其的性質廣泛應用在礦泉水的制備；反滲透設備的預處理；自來水凈化處理；海水淡化的預處理；廢水回用的凈化處理；去除水中的膠體和；濾除提取液中的大分子量雜質、蛋白質和多糖，后制得制劑；對有效成分進行濃縮，濾除藥液中水分和小分子量雜質；低度白酒去濁除菌；果酒、啤酒及其他酒類的精制；凈化茶汁，制備濃縮茶；針劑、大輸液除熱源；濃縮人體血清。超濾技術具有以下特點：
1. 濾過程是在常溫下進行，條件溫和無成分破壞，因而特別適宜對熱敏感的物質，如藥物、酶、果汁等的分離、分級、濃縮與富集。
2. 濾過程不發生相變化，無需加熱，能耗低，無需添加化學試劑，無污染，是一種節能環保的分離技術。
3. 超濾技術分離效率高，對稀溶液中的微量成分的回收、低濃度溶液的濃縮均非常有效。
4. 超濾過程僅采用壓力作為膜分離的動力，因此分離裝置簡單、流程短、操作簡便、易于控制和維護。
5. 超濾法也有一定的局限性，它不能直接得到干粉制劑。對于蛋白質溶液，一般只能得到10～50%的濃度。
超濾原理
中空纖維超濾是在一支空心柱內裝有許多的，中空纖維毛細管，兩端相通，管的內徑一般在0．2mm左右，有效面積可以達到1平方厘米每一根纖維毛細管像一個微型透析袋，極大地了滲透的表面積，提高了超濾的速度。
中空纖維超濾膜是超濾膜的一種。它是超濾技術中為成熟與的一種技術。中空纖維中空纖維管壁上布滿微孔，孔徑以能截留物質的分子量比較大，截留分子量可達幾千至幾十萬。
原水在中空纖維外側或內腔加壓流動，分別構成外壓式與內壓式。超濾是動態過濾過程，被截留物質可隨濃縮水排除，不致堵塞膜表面，可長期連續運行。超濾膜是早開發的高分子分離膜。
超濾技術是一種廣泛用于水的凈化，溶液分離、濃縮，以及從廢水中提取有用物質，廢水凈化再利用領域的高新技術。特點是使用過程簡單，不需加熱，能源節約，低壓運行，裝置占地面積小。

純凈水設備報警功能介紹
(1)高壓泵進口水壓力低于報警：高壓泵進口必須灌滿水，以便運行。預處理設備選型不當、泵進口閥門無意中關閉，均可導致RO進口水不足。因此，RO水處理系統，一般需設進水低壓報警并停機，以保護高壓泵。高壓泵起動輸送水時，泵的水常會有一個初始壓降。高壓泵出口閥需緩慢打開，以免造成進口壓降過大，而引起進口水不足。對離心泵來說，水壓力位正值是十分不要的。
(2)高或低pH值報警：對CA膜的RO系統，為防止CA膜水解，給水pH值有一個允許范圍，給水pH高/低報警顯得十分重要。當給水pH超出允許范圍時，不應該停機，而應進行調節給水加酸量。因為如果立即停機，則pH過高或過低的給水仍會與膜接觸，使膜損壞，當RO系統起動，穩定pH值在某一范圍內時，通常會有一個時間滯后，這是應考慮的。
純凈水設備
純凈水設備
(3)高溫報警：在一個寒冷的北方地區，有時為維護穩定的RO裝置處理，對給水要進行加熱處理。如果熱交換器出口水溫度高到足以使膜元件損壞，則不應立即停機，而應調節水的溫度，以便把過高溫度的給水沖出RO系統。當用于清洗RO系統的清洗箱設置加熱裝置時，也可能會發生清洗液溫度過高。如果清洗液加熱至一定溫度，在溶液循環期間，清洗泵引起的熱會進一步升高清洗液的溫度。當清洗液溫度過高時，應排掉部分清洗液，補充一些常溫水，再進行循環，沖洗走RO系統內的高溫水，必要時，重新配置清洗液的濃度，以維持清洗效果。
(4)給水硬度高報警：對小型RO系統，為防止RO膜上鈣鎂垢的形成，常使用軟化器，此時，有必要設定硬度高報警，以防硬度與碳酸鹽或鹽形成的垢在膜上形成。軟化器泄露，硬度進入RO系統是可能得。如果軟化器再生不充分，硬度也可能進入給水中。
(5)余氯高報警：對中空PA膜和復合膜的RO系統，由于余氯會引起膜的降解，因此，設定余氯高報警是比喲啊的。如果加入還原劑來還原氧化劑，則也可使用氧化還原電位計。當采用活性炭除余氯，而RO給水余氯濃度高時，說明活性炭已不起作用，如果在預處理中加入了余氯殺菌，則應停止加氯，用無氯水沖RO系統。而采用還原劑除余氯時，應加大還原劑的量，以使給水余氯含量為零。

詳情介紹：
一、設備概述：
超純水處理設備
超純水應用領域：在制藥和某些行業常需要純凈的蒸餾水，但傳統蒸餾法制取蒸餾水存在能耗高、不穩定、不環保的缺陷，漸漸退出歷史的舞臺。取而代之的環保的CEDI技術。
水處理混床系統
一般處理工藝：反滲透+EDI+混床工藝替代傳統純蒸餾方法已經成為當今世界用水生產技術的主流。近年來代表制藥用水制備工藝技術水平的連續電去離子技術(Continuous Electrodeionization CEDI)的出現，促使用水制備工藝摒棄伴生廢酸、廢堿污染的傳統離子交換技術，令系統實現全自動計算機控制，連續生產，安全無污染。
反滲透純凈水設備--低成本、高質量。
二、EDI簡介：
EDI即連續除鹽技術（EDI，Electro deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被去除的過程。這一過程中離子交換樹脂是被電連續再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術可以代替傳統的離子交換裝置，生產出電阻率達17 MΩ·cm的超純水。
三、工作原理：
在一對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成了一個EDI單元。將一定數量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列，并使用網狀物將每個EDI單元隔開，形成濃水室。在給定的直流電壓的推動下，在淡水室中，離子交換樹脂中的陰陽離子分別在電場作用下向正負極遷移，并透過陰陽離子交換膜進入濃水室，同時給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據由于離子電遷移而留下的空位。通過這樣的過程，給水中的離子穿過離子交換膜進入到濃水室被去除而成為除根水。帶負電荷的陰離子（例如OH-、Cl-）被正極（+）吸引而通過陰離子交換膜，進入到鄰近的濃水室中。此后這些離子在繼續向正極遷移中遇到鄰近的陽離子交換膜，而陽離子交換不允許其通過，這些離子即被阻隔在濃水中。淡水流中的陽離子（例如Na+ 、H+）以類式的方式被阻隔在濃水中。在濃水中，透過陰陽膜的離子維持電中性。
四、應用領域：
超純水經常用于微電子工業、半導體工業、發電工業、制藥行業等。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、發電廠的鍋爐補給水，以及其它應用超純水。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
高品質顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。
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