詳情說明
中水回用設備簡介：
中水回用設備由原水收集系統、水處理系統和中水供水系統組成。原水收集系統主要是采集原水，包括室內中水采集管道、室外中水采集管道和相應的集流配套設施；中水處理設備是用來處理原水使其達到中水的水質標準；中水供水系統通過室內外和小區的中水給水管道系統向用戶提供中水。
中水回用設備優勢：
我司的中水回用設備工藝已采用膜處理技術，包括預處理、超濾系統和反滲透(RO)系統及EDI系統（可選）幾部分。由于廢水通過現代技術的深度處理能夠達到生產用水標準或者生活雜用水標準，使廢水能夠循環使用，這樣企業對于廢水這一塊的整體運行費用得到的降低，對環境保護起到很大的作用。
注：中水回用主要是節約自來水資源，減少廢水排放量，即達標后廢水通過深度處理轉變成有用之水，適合于各種污染企業使用。
中水回用設備主要用途：
1、造紙、、、啤酒、城市生活污水、化工、電鍍、涂裝、線路板、紡織、漂染行業所達標排放的廢水；
2、各種表面處理制程中清洗用水；
3、陽極、陰極電泳漆及其它行業零排放廢水。
中水回用設備產水標準：
1.用于一般景觀生態用水符合(CJ/T95-2000),
2.用于生活雜用水應符合(CJ/48-1999),
3.用于工業循環冷卻水應符合(GB/T50102-2003).
中水回用設備功能性說明：
1.能有效地進行固液分離，將廢水中的懸浮物質、膠體物質、生物單元流失的微生物菌群與已凈化的水分開。分離工藝簡單，占地面積小，出水水質好，一般不須經處理即可回用。
2.可使生物處理單元內生物量維持在高濃度，使容積負荷提高，使處理單元水力停留時間的縮短，生物反應器的占地面積相應減少。
3.由于可防止各種微生物菌群的流失，有利于生長速度緩慢的(硝化等)的生長，從而使系統中各種代謝過程順利進行。
4.使一些大分子難降解有機物的停留時間變長，有利于它們的分解。
5.膜處理技術與其它的過濾分離技術一樣，在長期的運轉過程中，膜作為一種過濾介質堵塞，膜的通過水量運轉時間而逐漸下降有效的反沖洗和化學清洗可減緩膜通量的下降，維持MBR系統的有效使用壽命。
一、超濾設備概述：
超濾是利用多孔材料的能力，以物理截留的方式去除水中一定大小的雜質顆粒。在壓力驅動下，溶液中水、有機低分子、無機離子等尺寸小的物質可通過纖維壁上的微孔到達膜的另一側，溶液中菌體、膠體、顆粒物、有機大分子等大尺寸物質則不能透過纖維壁而被截留，從而達到篩分溶液中不同組分的目的。該過程為常溫操作，無相態變化，不產生二次污染。
中空纖維超濾膜是超濾技術中為成熟與的一種形式。中空纖維外徑0.5-2.0mm，內徑0.3-1.4mm，中空纖維管壁上布滿微孔，孔徑以能截留物質的分子量表達，截留分子量可達幾千至幾十萬。原水在中空纖維外側或內腔加壓流動，分別構成外壓式與內壓式。超濾是動態過濾過程，被截留物質可隨濃縮小排除，不致堵塞膜表面，可長期連續運行。
二、超濾設備工作原理：
超濾是一種以篩分為分離原理，以壓力為推動力的膜分離過程，過濾精度在0.005-0.01μm范圍內， 可有效去除水中的微粒、膠體、、熱源及高分子有機物質。可廣泛應用于物質的分離、濃縮、提純。超濾過程無相轉化，常溫下操作，對熱敏性物質的分離尤為適宜，并具有良好的耐溫、耐酸堿和耐氧化性能，能在60℃ 以下，pH為2-11的條件下長期連續使用。
三、超濾膜的分類：
超濾膜按結構型式分為板框式（板式）、中空纖維式、納米膜表超濾膜、管式、卷式等多種結構。其中，中空纖維超濾膜是超濾技術中為成熟與的一種形式。中空纖維外徑0.4-2.0mm，內徑0.3-1.4mm，中空纖維管壁上布滿微孔，孔徑以能截留物質的分子量表達，截留分子量可達幾千至幾十萬。原水在中空纖維外側或內腔加壓流動，分別構成外壓式與內壓式中空超濾膜。超濾是動態過濾過程，被截留物質可隨濃縮液排除不致堵塞膜表面，可長期連續運行。
四、超濾技術的應用：
早期的工業超濾應用于廢水和污水處理。三十多年來，隨著超濾技術的發展，如今超濾膜技術的應用領域已經很廣，主要包括生活飲用水、食品工業、飲料工業、乳品工業、生物發酵、生物、化工、生物制劑、制劑、、印染廢水、食品工業廢水處理、資源回收以及環境工程等等。

量型：流量達到設定值時開始還原，適用于所有系統供水。軟化水設備,鍋爐軟化水設備
微電腦型：將水質資料輸入微電腦．可自動設置各程序的時間。如配用中央控制器，可實現遠程控制，適用于自動化程度較高的樓宇自控等系統供水。
參數和使用要求：原水硬度：3-10mg-N／L(1mg-N／L=2.8德國度=50mg／LCaCO3硬度)，如原水硬度高于10mg-N／L,選型時加大一個型號或采用二級軟化。
●出水口硬度：≤0.03mg-N／L
●水壓：0.2-0.6Mpa
●工作溫度：2-50℃
●自控電源：220V，50Hz
●耗電量：<10W
●鹽耗：<100克／克當量
全自動軟化控制方式 　
A、 由一個交換罐、一個控制閥和一個鹽箱組成。再生控制方式分為時間型和流量型，再生時需停止產水2小時，適用于間歇供水場合，若需連續供水，可配置一個儲存2小時水量的水箱。
B、由一個控制閥控制兩臺交換罐交替供水，交替再生，實現不間斷供水，適用于連續供水的場合，再生方式為流量型。
C、由兩個控制閥，兩個交換罐和一個鹽箱組成，兩套罐交替供水．交替再生．連續供水．再生控制方式為流量型。
D、由兩個控制閥、兩個交換罐、兩個鹽箱組成，兩套罐同時供水，交替再生，連續供水，再生控制方式為流量型。軟化水設備產品結構：
1. 進口控制閥：閥體材質為高強度輕質耐腐蝕工程塑料、無鉛黃銅。軟化水設備,鍋爐軟化水設備,全自動軟化水設備
2. 抗腐蝕罐體：罐體材質為玻璃鋼（可選用碳鋼或不銹鋼襯塑罐體），罐體防腐、耐壓，使用壽命長。
3. 均勻布水系統：采用射流式布水，樹脂有效交換容量得以充分發揮，用鹽控制，無須鹽泵。
4. 進口高性能樹脂：選用強酸性陽離子交換樹脂，破損率低，粒度均勻，提高離子交換率。
軟化水設備工作程序：
1. 供水：未處理的水通過樹脂層，發生交換反應，產生軟水。
2. 反洗：水從樹脂層下部進入，松動樹脂，去除細碎雜物。
3. 進鹽水再生：利用較高濃度的鹽水（Nacl）流過樹脂，將失效樹脂重新還原為鈉型可用樹脂。
4. 沖洗：按照供水時的流程使水通過樹脂沖洗掉多余的鹽液和再生交換下來的鈣、鎂離子。
5. 注水：向鹽箱內注水，溶解食鹽，以備下次再生所用。
軟化水設備性能特點：
1. ：軟水器整體設計配套合理，使樹脂的有效工作交換容量得以充分發揮。
2. 省工：自動化程度高，無需設專人值守。
3. 省水：軟水器制水率達98%以上。
4. 省電：采用虹吸再生原理，無需鹽泵，耗電量僅相當于手動軟水設備的1%。
5. 占地空間小：只需提供樹脂罐和鹽罐的占地空間，節省管路、鹽泵所占空間。
6. 調整方便：用戶可根據實際需要，自行調整再生周期和再生時間。
7. 運行費用低：由于自動化程度高，軟水器能適應水量變化，地計量產水量、計量再生劑的用量，避免了再生時再生劑無辜的浪費，同時可節省大量的人工費。 
軟化水裝置安裝要求：
1. 地基需水平，就近設置地漏或排水溝，以排走再生廢水。設備附近應設立的電源插座。
2. 鹽箱應靠近交換罐，吸鹽管越短越好。
3. 進水管上應安裝上Y型過濾器以及水表，出水口應設取樣口。
4. 進出水管上應安裝手動閥門，進出水口之間應設旁通閥，以便在再生或檢修時繼續供水。軟化水設備,鍋爐軟化水設備,全自動軟化水設備
三、應用范圍：系列全自動軟水器：可廣泛應用于蒸汽鍋爐、熱水鍋爐、交換器、蒸發冷凝器、空調、直燃機等系統的補給水的軟化。還可用于賓館、飯店、寫字樓、公寓等生活用水的處理及食品、飲料、釀酒、洗衣、印染、化工、醫藥等行業的軟化水處理。目前已廣泛應用于各種蒸汽鍋爐、熱水鍋爐、熱交換器、蒸汽冷凝器、空調、直燃機等設備及系統的循環補給水中。此外還用作生活水處理，食品、電鍍、醫藥、化工、印染、紡織、電子等工業水處理以及作為脫鹽系統的前置處理。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
高品質顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。

一、學校直飲水設備的概述
現在的學生由于覺得學校的水不衛生，養成了愛喝帶甜味、帶汽的飲料，不但容易使學生產生厭食厭水，長期下去還會使學生得營養缺乏癥。學校直飲水設備徹底解決了學校用水的安全衛生問題。直飲水設備采用的反滲透技術凈水，另水價低廉，方便食用，直飲水設備具有節能環保的特點，徹底清除生產、包裝等不必要的浪費，利國利民。
二、學校直飲水的優點
1、采用進口逆滲透膜(RO膜，美國水質協會合格產品)，運用目前國際上的逆滲透技術工藝制備純水。
2、五級過濾，綜合發揮各濾芯的有效作用，清除原水中的泥沙、懸浮物、膠體、有機物、重金屬、可溶性固體、、、熱源和其他有害物質，僅保留水分子和溶解氧。
3、采用進口靜音高壓泵，使用壽命長，運行質量可靠。
4、預處理濾芯采用可更換方式，可有效保證預處理效果，且更換方便，換芯價格經濟，產水運行成本低。
5、具有高壓沖洗逆滲透膜的功能，可有效延長RO膜的壽命。
6、制水過程自動控制，原水缺水停機，儲水桶水滿停機。
學校直飲水設備
三、學校直飲水設備的工藝流程
1、原水泵
原水泵是為原水預處理系統提供原水壓力的作用。如果原水有壓力就完全可以不用這個設備。一般要求原水壓力>=0.3MP。
2、原水箱
原水箱的作用更簡單，是儲存原水用的。這是怕原水萬一供不上作一個中轉。
3、石英砂過濾器
這個設備主要是過濾水中的微生物、塵土使原水達到清澈的目的。
4、活性炭過濾器
該設備主要是過濾水中的余氯。
5、加藥系統(陰陽離子交換系統)
以前本系統為陰陽離子交換系統，但是操作起來非常不容易且費工，費料?，F在改為加藥系統直接向里添加阻垢劑。
四、學校直飲水設備的日常維護注意事項
4.1　低壓沖洗
定期對RO裝置進行大、低壓力、低ph值的沖洗有利于剝除附著在RO膜表面上的污垢維持膜性能或當進水SDI突然升高超過5.5以上時應進行低壓沖洗待SDI值調至合格后再開機。
4.2停運保護
由于生產的波動，RO裝置不可避免地要經常停運，RO短期或長期停用時必須采取保護措施，不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。
短期保存適用于停運15d以下的RO系統可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護RO裝置。實踐發現水溫20℃以上時 ，RO裝置中的水存放3d就會發臭變質有大量繁殖。因此建議水溫高于20℃時每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關閉反滲透裝置上所有進出口閥門。
長期停用保護適用于停運15d以上的系統，這時必須用保護液(殺菌劑)充入反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為10%(質量分數)、異噻唑啉酮20mg/l、亞硫酸氫鈉1%(質量分數)。
以前常用的殺菌劑配方是，因其具有便宜、易得的優點。但近來出于對環保和人體健康的考慮，異噻唑啉酮逐漸被重視但其在反滲透保護中的應用尚未見報道。
4.3化學清洗
在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染這些物質沉積在膜表面上會引起反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此為了恢復良好的透水和除鹽性能需要對膜進行化學清洗。
一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應該改善RO的預處理系統調整RO的運行參數。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設備的運行水平，是否需要改進預處理系統較難判斷。
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