飲料生產用水處理設備控制系統
1、，飲料生產用水處理設備整套控制系統采用全自動控制，采用邏輯控制器為處理核心，用觸摸屏進行控制。配計算機通信接口，可進行工業組態并與中控室直接通信，實現遠程。
2、電器所有接線端需用打碼機標注線號，所有電器元件標注名稱及編號。
3、設備投入運行前，設定設備的工作壓力等相關運行參數，設備運行時，由壓力傳感器連續采集供水管網中的水壓及水壓變化信號，并將其轉換為模擬量電流信號傳送至變頻控制系統，控制系統將反饋回來的模擬信號與設定壓力進行比較和運算，如果實際壓力比設定壓力低，則發出指令控制水泵加速運行，如果實際壓力比設定壓力高，則控制水泵減速運行，當達到設定壓力時，水泵就維持在該運行頻率上。
飲料生產用水處理設備
飲料生產用水處理設備
4、電控箱采用內裝自動照明燈及防塵散熱風扇。
5、主泵停止工作，副泵進行供水也為變頻恒壓供水方式，進一步提高了工作效率，節約了能源。
6、如果變頻水泵達到了額定轉速(頻率)，經過一定時間的判斷后，管網壓力仍低于設定壓力，則控制系統會將該水泵切換至工頻運行，并變頻啟動下一臺水泵，直至管網壓力達到設定壓力。反之如果系統用水量減少，則系統指令水泵減速運行，當降低到水泵的有效轉速后，則正在運行的水泵中啟動的水泵停止運行，即減少水泵的運行臺數，直至管網壓力恒定在設定壓力范圍內。
飲料生產用水處理設備
飲料生產用水處理設備
為了保證產水水質的穩定性，一定要掌握飲料生產用水處理設備使用過程中的各種注意事項，避免失誤操作帶來的經濟損失。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。

反滲透技術是膜分離技術，與前置預處理系統配套使用；利用高壓泵的加壓，反滲透膜的截留，可有效去除水中固體溶解物、有機物、膠體、微生物以及等雜質。具有應用范圍廣、主動化程度高、占地少、能耗低、出水水質好。
反滲透主機組成
反滲透主機主要由增壓泵，膜殼，反滲透膜，控制電路等組成，是整個水處理系統中的核心部分，產水水質的好主要也取決該部分。只要膜的型號及增壓泵的型號選取得當，反滲透主機對水中鹽分的過濾能力都能達到99%以上，出水電導率可保證在10us/cm（25度）以內。
反滲透原理
把相同體積的稀溶液（如淡水）和濃液（如海水或鹽水）分別置于一容器的兩側，中間用半透膜阻隔，稀溶液中的溶劑將自然的穿過半透膜，向濃溶液側流動，濃溶液側的液面會比稀溶液的液面高出一定高度，形成一個壓力差，達到滲透平衡狀態，此種壓力差即為滲透壓滲透壓的大小決定于濃液的種類，濃度和溫度與半透膜的性質無關。若在濃溶液側施加一個大于滲透壓的壓力時，濃溶液中的溶劑會向稀溶液流動，此種溶劑的流動方向與原來滲透的方向相反，這一過程稱為反滲透。
預處理
預處理常常由石英沙過濾裝置，活性碳過濾裝置，精密過濾裝置組成，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物，色素、異味、生化有機物，降低水的余氨值及污染等有害的物質。如果原水中鈣鎂離子含量較高時，還需增加軟水裝置，主要目的在于保護后級的反滲透膜不受大顆粒物質的破，從而延長反透膜的使用壽命。
反滲透設備是圍繞反滲膜而組織成的一套水處理系統，一套完整的反滲透系統分別由預處理部分、反滲透主機（膜過濾部分）、后處理部分和系統清洗部分共同組成。

貴州超純水設備，不銹鋼超純水設備產水后消毒處理的方法有哪些？
為了保護人體健康，防止水致病的傳播，必須對不銹鋼超純水處理后用于飲用的水中致病微生物加以控制。原則上，熱法和膜法兩種純水處理工藝的產水基本都不含有微生物，但是，在超純水的儲存或管網配送中水可能受到二次污染。因此，出于安全考慮，不管是熱法還是膜法生產出來的超純水，都必須進行消毒。超純水后處理消毒的一般原則類似于飲用水的消毒。
消毒工藝是指將水體中的病原微生物滅活，使之減少到可以接受的程度。人體內致病微生物主要包括病菌、原生動物胞囊、等。
水的消毒方法很多，可大致歸納為物理法和化學法。物理法消毒主要是利用加熱、紫外線等物理手段破壞微生物體內的酶系統或DNA進行微生物滅活。但由于成本較高、操作困難、不具備持續殺菌能力等原因在應用上受到了一定限制?；瘜W法是目前使用廣泛、效果的一種消毒方法。它是通過向水中投加化學藥劑破壞微生物壁和體內的酶系統對微生物進行滅活和控制。
理想的消毒劑需要具備的主要特點如下：
(1)、不但殺菌效率高，而且具有持續殺菌能力。
消毒劑殺菌只有，才能保證在用量有限的條件下短時間內滅活微生物。此外，由于許多微生物具有在環境不適宜的條件下形成芽孢或胞囊的能力，一旦環境改善后會再度萌發和繁殖，因此消毒劑的持續殺菌能力非常重要。
(2)、安全、不產生有毒副產物。
消毒劑用于殺菌的投放濃度必須對人體不產生危害，也不產生其他的有毒副產物。消毒經濟、有效、使用方便，有上百年的應用歷史。但自20世紀70年代人們發現受污染水源經氯化消毒后會產生(THMs)等致物，對消毒所產生的有毒副產物的評價便引起了人們廣泛重視。目前，雖然仍是應用廣泛的一種消毒方法，但其他消毒方法也日益受到重視。
(3)、容易生產，儲運方便，成本低廉。
目前用于飲用水消毒常用的消毒劑是各種形式的氯(如、次等)，因為氯作為消毒劑的效率是公認的，而且氯在消毒過程中在淡化水中產生的消毒副產物的前體濃度也較低。其他的消毒劑如氯胺或二氧化氯可作為次要消毒劑，而臭氧或紫外線照射，可以與氯胺結合使用，以控制微生物在特定情況下的再生長。這些工藝成本相對較高，效果也不是很好，但沒有殘留效應。
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