詳情介紹：
一、設備概述：
超純水處理設備
超純水應用領域：在制藥和某些行業常需要純凈的蒸餾水，但傳統蒸餾法制取蒸餾水存在能耗高、不穩定、不環保的缺陷，漸漸退出歷史的舞臺。取而代之的環保的CEDI技術。
水處理混床系統
一般處理工藝：反滲透+EDI+混床工藝替代傳統純蒸餾方法已經成為當今世界用水生產技術的主流。近年來代表制藥用水制備工藝技術水平的連續電去離子技術(Continuous Electrodeionization CEDI)的出現，促使用水制備工藝摒棄伴生廢酸、廢堿污染的傳統離子交換技術，令系統實現全自動計算機控制，連續生產，安全無污染。
反滲透純凈水設備--低成本、高質量。
二、EDI簡介：
EDI即連續除鹽技術（EDI，Electro deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被去除的過程。這一過程中離子交換樹脂是被電連續再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術可以代替傳統的離子交換裝置，生產出電阻率達17 MΩ·cm的超純水。
三、工作原理：
在一對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成了一個EDI單元。將一定數量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列，并使用網狀物將每個EDI單元隔開，形成濃水室。在給定的直流電壓的推動下，在淡水室中，離子交換樹脂中的陰陽離子分別在電場作用下向正負極遷移，并透過陰陽離子交換膜進入濃水室，同時給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據由于離子電遷移而留下的空位。通過這樣的過程，給水中的離子穿過離子交換膜進入到濃水室被去除而成為除根水。帶負電荷的陰離子（例如OH-、Cl-）被正極（+）吸引而通過陰離子交換膜，進入到鄰近的濃水室中。此后這些離子在繼續向正極遷移中遇到鄰近的陽離子交換膜，而陽離子交換不允許其通過，這些離子即被阻隔在濃水中。淡水流中的陽離子（例如Na+ 、H+）以類式的方式被阻隔在濃水中。在濃水中，透過陰陽膜的離子維持電中性。
四、應用領域：
超純水經常用于微電子工業、半導體工業、發電工業、制藥行業等。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、發電廠的鍋爐補給水，以及其它應用超純水。

超純水設備采用的反滲透技術和EDI技術相結合的制水技術，被廣泛應用在各個行業，那么超純水系統一般采用什么工藝呢，您的行業適合那種工藝呢?下面我們就了解一下：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)
超純水設備
超純水設備
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)
超純水系統一般采用以上幾種工藝，以上工藝各有各的優勢，用戶可以根據自身的情況選購適合自己超純水設備工藝。

生活水處理設備主要包括了軟水機、純水機、凈水器、精密過濾器和開水龍頭以及路設計、設備安裝和售后服務等，這是一整套為消費者提供的水處理設備。目前市場上水處理設備也主要包括軟水機、純水機、凈水器類型。
主要特點
1、不改變水的化學性質，對人體無任何。
2、除垢效果明顯。該設備安裝在水循環系統，對原有垢厚在2mm以下的，一般情況下30天左右可逐漸使其松動脫落，處理后的水垢呈顆粒狀，可隨排污管路排出，不會堵塞管路系統，。舊垢脫落以后，在一定范圍內不再產生新垢。
3、設備體積小，安裝簡單方便，可長期無人值守使用。
4、水流經設備以后，可使水變成磁化水，而且對于水中有一定的抑制和殺滅作用。
5、不腐蝕設備，可延長伺服設備的使用壽命。
應用領域
1、生活設施領域：各式熱水鍋爐、中央空調、換熱系統、家用中央空調、壁掛鍋爐等。
2、工業通用設備：空壓機、制冷機、換熱器、冷卻器等。
3、行業應用：食品、制藥、酒類等行業用水設備的防垢、除垢、磁化、殺菌滅藻。
工作原理
任何物質都有自己固有的頻率，水垢屬于無機鹽類，一般設備的外殼都是金屬材料制作，水垢和金屬材料的振蕩頻率不同。SLGP型電子水處理儀釋放的高頻振蕩波對于附著在金屬材料表面的水垢產生共振，即擊碎剝離，由表及里，循環進行，從而達到除垢的效果。
同時，當水流經高壓、高頻電磁場時，水中的重碳酸鹽中的鈣、鎂離子和各重碳酸根離子會在高壓、高頻電磁場的作用下，失去化學性、物理性和相互吸引的能力，逐漸形成晶體團沉入底部，隨排污排出，從而達到防垢的目的。
水處理設備是應用在反滲透系統之后，它利用模塊兩端電極使水中的帶電離子移動，并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜，以加速離子移動去除，進而達到水的純化，產水電阻率可達到15--18M。而離子交換樹脂再生所需的氫根及氫氧跟則來自于高壓電下，由水中的解離所供給，這樣就無需用酸、堿來進行再生還原。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。
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